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前Intel CEO创办xLight获美政府1.5亿美元扶持 聚焦EUV激光技术

佚名 编辑:Dwight 发布于:2025-12-04 07:00 PConline原创
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2025年12月2日,美国商务部宣布支持xLight公司,获1.5亿美元资金扶持。该公司由前Intel CEO Pat Gelsinger担任执行主席,专注开发功率为现有4倍的EUV自由电子激光(FEL)技术,旨在提升芯片制造效率和良率。此举助力美国重振摩尔定律与本土光刻技术领导地位。

美国商务部(DOC)于昨日宣布将进一步支持本土芯片制造企业的发展,最新受益方是一家由风险资本投资、专注于EUV FEL技术的初创公司xLight。这家新兴企业在今年早些时候已备受关注,前Intel CEO Pat Gelsinger以董事会执行主席的身份加入该公司。

依据《芯片与科学法案》的相关规定,xLight已初步获得一系列联邦激励政策的批准,双方已签署一份不具法律约束力的意向书,为其争取到最高1.5亿美元的政府资金支持。不过美国商务部并未披露其在xLight公司中所占的股权比例。

xLight公司首席执行官兼首席技术官Nicholas Kelez就此事表示:“在美国商务部、投资方及研发合作伙伴的支持下,xLight正于奥尔巴尼纳米技术中心打造首套自由电子激光系统。这里汇聚了全球顶尖的光刻技术能力,将为定义芯片制造未来的研发工作提供有力支撑。”

在ASML占据主导地位的光刻领域,xLight正以创新者的姿态崭露头角。该公司在官方介绍中提出了一套替代性技术方案:“提升芯片性能、生产效率及整体良率的关键路径有两条——功率与偏振。而我们的EUV FEL技术恰好能同时解决这两大问题。”

xLight指出,其EUV FEL光源的功率是LPP技术的4倍。更高的功率输出能帮助晶圆厂优化图形化工艺、提升生产效率与良率,单台光刻机每年可因此新增数十亿美元营收,同时每片晶圆的成本可降低约50%。此外,一套xLight系统的使用寿命长达30年,最多可支持20台ASML光刻设备运行,能将资本支出与运营成本降低逾2/3。

针对昨日签署的初步合作协议,Pat Gelsinger也发表了看法:“重振摩尔定律、重塑美国在光刻领域的领先地位,这是一个千载难逢的机遇。在美国联邦政府的支持下,xLight将把这一机遇转化为现实。我们正在研发的高能效EUV激光技术,性能较当前技术提升10倍,它将开启摩尔定律的全新篇章,提升晶圆厂生产效率的同时,构建起关键的本土技术能力。”

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