英特尔首席执行官Pat Gelsinger在财报会议上表示,外部代工仍是英特尔发展路线中不可或缺的一部分。虽然未来外部代工量会减低,但随着自家晶圆厂4年5节点策略的稳健发展,自家的制程技术竞争力也随之提升,这使得英特尔未来将会有更多产品采用自有晶圆厂制造。 但是使用外部代工厂来进行委外代工,也一直将是英特尔发展策略的重要部分。因此,英特尔将继续保持使用委外代工的推进,这样研发团队就始终可以使用业界领先的技术来生产产品。 至于High-NA EUV曝光机的应用,Pat Gelsinger表示不会在Intel 18A节点制程使用,而是留到下一个更先进的节点制程上。他指出,英特尔不会将High-NA EUV曝光机导入Intel 18A节点制程的原因,在于到入时的风险。在重新将英特尔的内部工制程技术推至世界领先的过程中,风险管控是重要一环,这原因延迟了High-NA EUV曝光机的应用。 Pat Gelsinger还确认,将在2月21日首次举行的IFS DirectConnect活动上,预计将透露更多有关High-NAEUV光刻机应用的信息。 |
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